大日本印刷（DNP）とキヤノンが、先端半導体分野で大きな存在感を示し始めています。DNPは1.4ナノ世代に対応する次世代テンプレートを開発し、キヤノンはナノインプリント方式の製造装置を拡販。両社の取り組みは、EUV（極端紫外線）露光装置が独占する市場構造を揺さぶる可能性があり、市場関係者の注目を集め、株価も上昇しております。以下にて詳しく見ていましょう！
DNP、1.4ナノ対応テンプレートを2027年量産へ AI半導体のコスト構造を変革も
大日本印刷は、従来のEUV露光では対応が困難だった1.4ナノメートル世代の半導体にも使えるテンプレート（回路原版）を開発しました。このテンプレートはキヤノンのナノインプリント製造装置向けに設計されており、2027年から量産を開始する計画です。
ナノインプリント方式は、ウエハーに回路パターンを“ハンコのように”押し付けて形成する手法で、消費電力は従来方式の10分の1に抑えられる可能性があります。AI向け半導体の需要拡大が続く中で、製造コストを大幅に下げられる技術として期待が高まっています。
一方で、微粒子混入による欠陥リスクや処理速度の課題が残り、メモリー大手のキオクシアで検証が進むものの、量産ラインへの本格採用には至っていません。量産化の実用性が確認されれば、EUV中心の半導体製造プロセスに大きな選択肢が生まれることになります。
キヤノン、ナノインプリント装置の普及に向け前進 米国で初出荷
キヤノンは2023年にナノインプリント装置の販売を開始し、2024年には米テキサス州の官民組織「Texas Institute for Electronics」向けに初出荷しました。EUV露光装置が1台300億円規模であるのに対し、ナノインプリント装置は数十億円程度とみられ、導入コストが大きく異なります。
ただし、既存の半導体工場はEUV露光工程を前提に設計されているため、ナノインプリント方式が採用されるには新設ラインでの評価が不可欠です。TSMCやサムスン電子など世界大手も1.4ナノ世代で同方式に関心を示しており、今後の展開次第では市場の構図が変化する可能性があります。
株式市場も反応 DNP株は続伸、キヤノン株も堅調推移
市場では先端半導体関連材料事業の拡大期待が強まり、大日本印刷の株価は続伸しました。
12月9日の終値は2,628.5円（+1.49％）で、一時は2661.5円まで上昇しています。ナノインプリント向け10ナノメートル線幅テンプレート開発の発表が買い材料となり、先端ロジック半導体市場での事業拡大が意識されました。
キヤノン株も同日に堅調で、4,635円（+0.87％）で取引を終えました。ナノインプリント装置の普及余地が市場テーマとして意識されているとみられます。
EUV独占市場に一石 日本勢巻き返しなるか
露光装置市場は長らくASMLが独占しており、世界シェアの9割を占める状況が続いています。かつてキヤノンとニコンが過半を握っていた市場で、日本勢の存在感は薄れていました。
しかし、ナノインプリント方式が量産レベルで定着すれば、日本企業の再浮上が現実味を帯びてきます。
DNPが開発したテンプレートや富士フイルムが参入を表明するウエハー塗布材料など、関連市場にも波及する可能性があり、今後の投資テーマとして注目度は一段と高まりそうです。
なお、本記事は、投資判断の参考情報として提供するものであり、特定の株式売買を推奨するものではありません。投資の最終ご判断はあくまで自己責任でお願いいたします。
STOCK EXPRESS車掌 SHUN
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【Dear Overseas Investors: Summary in English】
DNP and Canon Advance Nanoimprint Technology as Alternative to EUV; Shares Rise
Japan’s Dai Nippon Printing (DNP) and Canon are accelerating efforts in next-generation semiconductor manufacturing, positioning themselves as emerging players in a market long dominated by ASML’s EUV lithography systems.
DNP has developed a new template capable of supporting 1.4-nanometer logic chips, a key technology for future AI data centers and autonomous driving. Mass production is planned for 2027. The template is designed for Canon’s nanoimprint lithography (NIL) systems, which form circuit patterns by pressing a mold onto the wafer. The method consumes only about one-tenth the power of EUV and is significantly cheaper, with tools costing only several billion yen versus about ¥30 billion for EUV scanners.
While challenges remain—such as defect risks from particle contamination and slower throughput—industry players including Kioxia, TSMC, and Samsung are evaluating the technology as a potential supplement or partial replacement for EUV.
Market reaction has been positive. DNP shares rose 1.49% to ¥2,628.5 on news of the NIL template breakthrough, while Canon gained 0.87% to ¥4,635. Investors are increasingly focused on whether nanoimprint tools can gain traction in new fabs and open the door for a broader resurgence of Japanese semiconductor equipment and materials suppliers.
Disclaimer: This article is provided for informational purposes only and should not be construed as a recommendation to buy or sell any specific securities. Please make investment decisions at your own discretion.
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