初値形成・需給動向
本日（2025年10月16日）、テクセンドフォトマスク＜429A＞が東京証券取引所プライム市場に新規上場（IPO）しました。初値は3,570円と公開価格（3,000円）を19.0％上回り、その後やや売り優勢となった場面でも公開価格は維持し、終値は3,380円でした。
公開株式数は52,203,500株と大型で、公開規模の大きさが懸念されていたものの、前日に新規上場したライオン事務器の好スタートや、当日のSOX指数上昇といった外部環境の追い風もあり、想定どおりの堅調な初値形成となりました。グローバル投資家ではカタール投資庁（QIA）などがIPOに参加し、需給面の下支えとなりました。
▼テクセンドフォトマスク株価推移（上場初日：2025年10月16日）
テクセンドフォトマスク株価推移（上場初日：2025年10月16日）
10月10日の記事（テクセンドフォトマスク、上場 ― 半導体フォトマスク世界首位、AI時代を支える成長企業 ―）でも事前にお伝えしたように、私も注目していた大型上場。以下に詳しく見ていきましょう。
事業概要とポジショニング
同社はTOPPANホールディングス＜7911＞傘下のフォトマスクメーカーを前身とし、2022年4月にトッパンHDとインテグラルの合弁で事業開始、今回の上場で独立性を高めました。
フォトマスクは半導体製造のリソグラフィ工程で用いられる“原版”で、最先端のEUVフォトマスクにも取り組んでいます。市場は内製・外販に大別され、同社は外販市場で高い世界シェアを確保しており、AI・5G・IoTなどのメガトレンドを追い風に中期的な成長が見込まれます。
社長の戦略
二ノ宮照雄社長は上場会見で「生産拠点の分散により柔軟な供給が可能」と述べ、シンガポールの新工場を含む日アジアでの先端領域投資を強化する方針を示しました。世界8拠点の分散体制により、米中対立や関税政策などの通商リスク抑制にも言及しています。中国は売上比率が大きい重要市場で、台湾・日本からの供給も活用しつつ、先端品比率の引き上げで競争優位の確立を目指します。
業績・見通し
26年3月期（会社計画）：売上高1,253億円（増収）、営業利益255億円（前期比－9.6％）。
先端領域の拡大投資や減価償却費の増加（前年から約26億円増の約179億円）、EUV等の研究開発費増（約9.7億円、前年から約2億円増）、サステナビリティやグローバル人件費の増などが利益を圧迫する見込みです。
最終利益（親会社株主帰属）は大幅増益予想（約188億円、＋89.8％）ですが、前期の一過性の税負担増の反動による側面が大きく、本業の収益力は営業段階で慎重評価が妥当です。
直近四半期（26/3期1Q）：売上300億円（前年比＋0.9％）で横ばい、営業利益58億円（同－12.7％）。一方、税負担の正常化により最終利益は54億円（同＋22.5％）でした。
バリュエーション視点（投資家的論点）
強気材料
・外販フォトマスク市場での高シェアとEUVを含む技術ポートフォリオ。
・AI関連投資拡大・ファブレス/ファウンドリー分業深化に伴う外注ニーズ増。
・8拠点分散によるサプライ安定性、地政学リスク分散。
・大型IPOながら海外機関投資家の需要獲得で需給の下支え。
リスク要因
・中国市場の価格競争激化による収益性低下懸念（売上の約3割を占める重要市場）。
・設備増強・研究開発・サステナ関連のコスト増で、26/3期は営業減益計画。
・半導体サイクル影響（スマホ・車載の回復度合い、金利・インフレ、地政学）による需要ブレ。
・EUV外部委託の進展速度不確実性（現状は大手内製比率が高い）。
需給・株主構成の変化
上場に伴い、TOPPAN HDの持株比率は50.1％→46.57％へ低下し、連結から持分法適用関連会社へ移行しました。インテグラルのファンド保有分は売出で縮小（グリーンシュー全行使でゼロ化の可能性）。一方、インテグラルは自己資金分として0.85％**を継続保有の方針です。
主幹事団（ジョイント・グローバル・コーディネーター）はSMBC日興、野村、モルガン・スタンレー、BofAが担当しました。
今後の注目ポイント
・EUVフォトマスクの商用外部委託の広がりと同社の受注獲得度合い。
・シンガポール新工場の立ち上げ進捗と稼働率、減価償却負担の吸収タイミング。
・中国事業のポートフォリオ見直し（価格競争対応、先端シフト、供給地最適化）。
・26/3期の営業利益ボトム確認と、27/3期以降の増益転換シナリオ。
・配当方針（今期予想1株あたり54円39銭）の持続可能性。
テクセンドフォトマスクは、外販フォトマスク市場での高いシェアと先端技術対応力を武器に、中長期成長が期待されます。一方、26/3期は中国での価格競争とコスト増により営業減益の計画で、「成長投資の過渡期」という位置づけです。初値は良好で需給は当面安定が見込まれるものの、EUV外注化の進展、中国収益性の底打ち、設備投資の収益化といったマイルストーンの確認が、株価の次のステージに向けたカギになると考えます。今後の開示と四半期推移を丁寧にフォローしてまいります。
なお、本記事は、投資判断の参考情報として提供するものであり、特定の株式売買を推奨するものではありません。投資の最終ご判断はあくまで自己責任でお願いいたします。
STOCK EXPRESS車掌 SHUN
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【Dear Overseas Investors: Summary in English】
Techsendo Photomask (TSE Prime: 429A) — IPO Debut
Debut (Oct 16, 2025, JST)
・IPO price: JPY 3,000
・First trade: JPY 3,570 (+19.0% vs. IPO)
・Close: JPY 3,380 (held above offer despite intraday selling)
・Offer size (incl. over-allotment): ~JPY 156.6bn, the 2nd-largest Japan IPO in 2025 after JX Metals.
・Order dynamics: Large float (52,203,500 shares) absorbed well; demand aided by positive read-through from yesterday’s Lion Office Products IPO and a stronger SOX on the day. Global accounts, incl. Qatar Investment Authority (QIA), participated, supporting the book.
Business & Positioning
・Pure-play photomask leader, including EUV-capable masks used in advanced lithography.
・Operates primarily in the merchant (external) photomask market, where it holds a high global share.
・Benefiting structurally from AI, 5G and IoT, and the deepening fabless/foundry outsourcing model.
・Originated from TOPPAN Holdings’ photomask operation; began as a JV (TOPPAN × Integral) in Apr-2022; listing increases independence.
Strategy & Capacity
・CEO Teruo Ninomiya highlighted geographically diversified supply across 8 sites, mitigating trade/geopolitical risk.
・Singapore greenfield and Japan/Asia investments to expand advanced nodes; aim to lift mix of leading-edge products, especially for China demand while diversifying supply (Taiwan/Japan).
Financials & Outlook
・FY Mar-2026 (company plan):
– Revenue: JPY 125.3bn (YoY growth)
– OP: JPY 25.5bn (–9.6% YoY) on heavier depreciation (~JPY 17.9bn; +~JPY 2.6bn YoY), higher EUV R&D (+~JPY 1.0bn YoY to ~JPY 1.0bn), and sustainability/global HR costs.
– Net income (to owners): ~JPY 18.8bn (+89.8% YoY), largely on normalization from last year’s one-off tax burden; core earnings best judged at the operating line.
・1Q FY26 (Apr–Jun 2025): Revenue JPY 30.0bn (+0.9% YoY), OP JPY 5.8bn (–12.7%), Net JPY 5.4bn (+22.5% on lower taxes).
・Dividend policy: FY26E DPS JPY 54.39.
Equity Story — Bull vs. Risk
・Positives
– High share in merchant photomasks; EUV portfolio in place.
– Secular tailwinds from AI capex and greater outsourcing.
– Eight-site footprint underpins supply resilience and geopolitics hedging.
– Despite large float, solid international demand anchored the book.
・Key Risks
– China pricing pressure (c. ~30% of sales) weighing on margins.
– Elevated capex/R&D and sustainability costs imply FY26 OP decline.
– Semiconductor cycle sensitivity (handset/auto recovery path, rates/inflation, geopolitics).
– Pace of EUV externalization still uncertain (many leading-edge masks remain in-house at majors).
Shareholder & Liquidity Changes
・Post-IPO, TOPPAN HD stake falls from 50.1% to 46.57% → reclassified from consolidation to equity-method affiliate.
・Integral (fund) stake reduced via secondary; greenshoe full exercise could bring fund stake to zero. Integral (proprietary) retains 0.85%.
・Joint Global Coordinators: SMBC Nikko, Nomura, Morgan Stanley, BofA.
What to Watch Next
– EUV merchant penetration and Techsendo’s win-rate.
– Singapore plant ramp (utilization, depreciation absorption).
– China portfolio reset (pricing discipline, mix shift to advanced).
– FY26 OP trough confirmation and FY27+ re-acceleration path.
– Dividend sustainability around JPY 54.39 DPS.
Bottom Line
Techsendo Photomask offers high structural exposure to advanced lithography with merchant-market leadership. Near term, it sits in a “transition year” of heavy growth investment and China pricing pressure—suggesting investors should focus on milestone execution (EUV externalization, China margin stabilization, and new-capacity monetization) to underwrite the next leg of the equity story.
Disclaimer: This article is provided for informational purposes only and should not be construed as a recommendation to buy or sell any specific securities. Please make investment decisions at your own discretion.
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